Le gouvernement néerlandais a publié ce vendredi 30 juin le décret restreignant l’exportation d’équipements de production de semi-conducteurs avancés. Les restrictions portent sur certains équipements de lithographie aux ultraviolets profonds (DUV), de déposition de couches minces, d’épitaxie ou de métrologie que Les Pays-Bas considèrent comme susceptibles d’être utilisés dans des applications militaires. A partir du 1er septembre 2023, les équipementiers néerlandais de semi-conducteurs devront demander une autorisation préalable d’exportation. Le gouvernement se gardera la liberté de les autoriser ou de les refuser au cas par cas.
« Nous avons pris cette mesure pour des raisons de sécurité nationale, affirme la ministre du Commerce extérieur et de la Coopération au développement, Liesje Schreinemacher. Il est bon que les entreprises qui seront touchées sachent à quoi elles peuvent s'attendre. Cela leur donnera le temps nécessaire pour s'adapter aux nouvelles règles. »
Accord secret avec les Etats-Unis
Le projet de ce décret a été annoncé en mars dernier dans une lettre adressée à la Chambre des représentants par Liesje Schreinemacher. Il concrétise l’accord secret conclu avec les Etats-Unis pour restreindre la vente de technologies de puces à la Chine comme le fait déjà Washington depuis octobre 2022. Le gouvernement néerlandais se garde bien de mentionner des pays en particuliers, même si les nouvelles mesures visent tout particulièrement la Chine.
Les Pays-Bas jouent un rôle central dans l’écosystème mondial de semi-conducteurs, à travers l’équipementier ASM International, présent dans différentes étapes de production comme la déposition, l’implantation ionique ou la gravure chimique, et surtout ASML, leader mondial des équipements de lithographie, la technologie la plus critique dans la fabrication de puces. La lithographie permettant d’imprimer les motifs du circuit, elle constitue le moteur de la miniaturisation régie par la fameuse loi de Moore.
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Les nouvelles mesures affectent tout particulièrement ASML. Ses équipements de lithographie aux ultraviolets extrêmes (EUV), indispensables à la fabrication des générations de puces avancées (7 nanomètres et moins) sont déjà sous contrôle strict depuis 2017. A la demande des Etats-Unis, leur vente au fondeur chinois SMIC est interdite par La Haye. Les nouvelles mesures étendent les restrictions à certains équipements de lithographie DUV par immersion utilisés dans la production de puces de 45 nanomètres et moins.
ASML minimise l'impact
ASML a pris acte du décret ministériel et précise qu’un seul de ses équipements est concerné par les nouvelle mesures, le TWINSCAN NXT:2000i, ainsi que ses évolutions futures. Il ne s’attend pas à ce que ces mesures aient un impact significatif sur ses perspectives financières pour 2023, ni sur ses scénarios à plus long terme tels que communiqués lors de son évènement dédié aux investisseurs en novembre dernier. La Chine a représenté 15 % de son chiffre d’affaires en 2022.
Le gouvernement néerlandais assure mettre en place des contrôles nécessaires pour répondre à ses préoccupations de sécurité sans trop pénaliser son industrie. « Nous avons mûrement réfléchi cette décision et rédigé l'arrêté ministériel le plus précisément possible, note la ministre. De cette façon, nous pouvons remédier aux vulnérabilités les plus importantes sans perturber inutilement la fabrication mondiale de puces».
